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                                                                空氣凈化技術(shù)的發(fā)展與應(yīng)用

       縱觀國(guó)內(nèi)外空氣凈化技術(shù)的發(fā)展史，都是伴隨著產(chǎn)品的可靠性、加工工藝的精密化、產(chǎn)品的微型化以及產(chǎn)品的高純度等要求而不斷地發(fā)展的。無(wú)論是在陀螺儀制造過(guò)程中應(yīng)用空氣凈化技術(shù)，提高了勞動(dòng)生產(chǎn)率和延長(zhǎng)了產(chǎn)品的使用壽命，還是在戰(zhàn)爭(zhēng)中發(fā)現(xiàn)電子儀器失靈的原因是灰塵作怪；無(wú)論是發(fā)射探索太空，還是阿波羅登月科技競(jìng)爭(zhēng)；無(wú)論是1k位集成電路的大規(guī)模生產(chǎn)，還是產(chǎn)品的微型化需求使集成度越來(lái)越高，發(fā)展超大規(guī)模的集成電路，集成度從1k位發(fā)展到1m、1km、4km、16km······；無(wú)論是控制無(wú)生命的微粒，還是控制有生命的微粒；無(wú)論是航天、軍方產(chǎn)品的需求，還是民用產(chǎn)品和家庭生活的需求······?？諝鈨艋夹g(shù)就是在這種需求、滿足、更高的需求、更好地滿足中不斷地發(fā)展，應(yīng)用領(lǐng)域不斷的地延伸。

      國(guó)際上空氣凈化技術(shù)的發(fā)展經(jīng)歷了以下階段：

      在20世紀(jì)20年代，美國(guó)航空業(yè)的陀螺儀制造過(guò)程中提出了生產(chǎn)環(huán)境的凈化要求。在制造車間、實(shí)驗(yàn)室建立了“控制裝配區(qū)”，供給一定量的過(guò)濾后的空氣。在朝鮮戰(zhàn)爭(zhēng)中，美國(guó)找到了電子儀器出故障的主要原因是灰塵作怪，而促成了空氣凈化技術(shù)的起步。

      1957年，前蘇聯(lián)顆人造的升空，---了美國(guó)加速發(fā)展宇航事業(yè)，制定了阿波羅登月計(jì)劃，其電子控制儀器和精密機(jī)械加工環(huán)境均要求凈化，因而促進(jìn)了凈化技術(shù)的大發(fā)展，建造了百級(jí)潔凈室，誔生個(gè)潔凈室標(biāo)準(zhǔn)。

      1970年，1k位的集成電路開始大規(guī)模生產(chǎn)，使凈化技術(shù)的發(fā)展突飛猛進(jìn)。20世紀(jì)80年代，大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的生產(chǎn)，使空氣凈化技術(shù)有了進(jìn)一步的發(fā)展，集成電路的最細(xì)光刻線寬達(dá)到2~3um。在70年代末和80年代初，美國(guó)、日本研制出0.1um級(jí)空氣過(guò)濾器，為潔凈度的提高創(chuàng)造了條件。

在20世紀(jì)90年代，超大規(guī)模集成電路的生產(chǎn)有了新的進(jìn)展，最細(xì)光刻線寬由80年代的微米級(jí)發(fā)展到亞微米級(jí)。到20世紀(jì)末，要求達(dá)到0.1~0.2um，集成度達(dá)到1km。集成電路的集成度越高，要求的光刻線寬就越小，則要求控制的塵粒粒徑就越小，塵粒數(shù)量也越少。如今，要求0.1um10級(jí)的潔凈度已經(jīng)很普遍，將來(lái)要求的潔凈度會(huì)更高，潔凈室的應(yīng)用領(lǐng)域會(huì)更加寬廣。