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工藝需求

• 不同生產(chǎn)工藝對潔凈度要求差異大：半導體制造中的光刻環(huán)節(jié)需在百級（ISO 5 級）或更高潔凈度環(huán)境中進行，以避免微米級粒子污染導致芯片電路短路或失效；液晶顯示（LCD/OLED）制造的成盒過程通常需千級（ISO 6 級）至百級潔凈環(huán)境，否則灰塵顆粒會導致顯示面板出現(xiàn)亮點、暗點等缺陷；印制電路板（PCB）制造中，高精度 PCB 的曝光、顯影等工序需萬級（ISO 7 級）潔凈度，防止銅箔污染影響電路導通。

技術(shù)要點

• 空氣凈化系統(tǒng)設(shè)計：采用 “初效 + 中效 + 高效” 三級過濾，高效過濾器效率需達到 HEPA（≥99.97%@0.3μm）或 ULPA（≥99.9995%@0.12μm）。氣流組織形式上，垂直單向流適用于百級及以上潔凈區(qū)，非單向流（亂流）適用于千級及以下區(qū)域。
• 壓差控制與氣流管理：潔凈區(qū)與非潔凈區(qū)之間保持 5-10Pa 正壓，高潔凈度區(qū)域?qū)ο噜彽蜐崈舳葏^(qū)域保持 5Pa 以上壓差。百級區(qū)換氣次數(shù)≥400 次 / 小時，千級區(qū)≥60 次 / 小時，萬級區(qū)≥20 次 / 小時，確保污染物及時排出。
• 建筑材料與結(jié)構(gòu)設(shè)計：墻面采用不銹鋼板、環(huán)氧樹脂涂層或潔凈彩鋼板，地面常用環(huán)氧樹脂自流平或 PVC 卷材，具備防靜電、耐磨、耐化學腐蝕性能。吊頂需承重高效過濾器與風管，采用密閉式設(shè)計，門窗采用不銹鋼或鋁合金材質(zhì)，密封膠條需耐老化、不釋放揮發(fā)物。
• 微污染綜合控制技術(shù)：地面、工作臺面鋪設(shè)防靜電材料，人員穿戴防靜電服、鞋套，設(shè)備接地。采用化學過濾器（活性炭吸附）去除空氣中的 VOCs、酸性氣體，濕法工藝區(qū)定期消毒，人員進入前經(jīng)風淋室除塵。

施工要點

• 施工流程的交叉污染控制：土建階段先完成主體結(jié)構(gòu)、防水工程，凈化工程階段按 “先上后下、先里后外” 原則施工，用臨時隔斷將施工區(qū)與已完工區(qū)域隔離，設(shè)置獨立的通風系統(tǒng)排出施工粉塵。
• 高效過濾器安裝與系統(tǒng)檢測驗證：高效過濾器安裝時與靜壓箱之間用密封墊壓實，并用掃描測試檢測邊框泄漏量，泄漏率需≤0.01%。按 ISO 14644-1 標準，在靜態(tài)、動態(tài)條件下檢測各粒徑粒子濃度，采用培養(yǎng)皿沉降法或浮游菌采樣器檢測微生物。

發(fā)展趨勢

• 節(jié)能化：采用熱回收系統(tǒng)、變風量（VAV）空調(diào)、LED 照明等技術(shù)，降低潔凈廠房高能耗問題。
• 智能化：通過物聯(lián)網(wǎng)（IoT）技術(shù)實現(xiàn)設(shè)備狀態(tài)預警、能耗優(yōu)化，結(jié)合 AI 算法動態(tài)調(diào)整潔凈參數(shù)。
• 模塊化設(shè)計：預制化潔凈單元（如集裝箱式潔凈室）縮短建設(shè)周期，適應半導體產(chǎn)線快速迭代需求。